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磨料漿檢測儀發展值得期待

 更新時間:2018-04-26  點擊量:3235
   磨料漿檢測儀發展值得期待  
   磨料漿檢測儀是運用光阻法單顆粒光學傳感技術對粒子樣本進行粒徑測試并計數,一次檢測一個粒子,來構建真正的粒徑分布,運用技術與激光衍射和沉降法所得到的粒徑統計學分布數據形成了鮮明對比,能夠在測量粒徑的同時收集顆粒數目信息,對顆粒進行的計數。
    與經典的電阻法相比,磨料漿檢測儀所得到的粒徑分布具有更高的分辨率和性,不會錯過任何“尾部”大顆粒,而這往往決定著被測樣品的合格與否。磨料漿檢測儀廣泛的測量范圍,高速的計數速率,對液相和氣相的兼容性,且可有效防止測試樣品中阻塞現象,這就是*的系列儀器,為美國藥典USP729規定的使用儀器,用于檢測乳劑中大于5微米粒子粒徑儀器。
  磨料漿檢測儀采用單顆粒技術對樣品中存在的粒子進行檢測粒徑的同時對其計數的粒度儀,其檢測范圍廣,0.5微米-3000微米;度高,重復性好,對乳劑中存在的大顆粒進行檢測。磨料漿檢測儀采用全自動進樣稀釋系統,可以檢測高濃度樣品,誤差率低于1%,是乳劑和半導體磨料漿檢測的選擇。
  磨料漿檢測儀經過光感區域的粒子由于大小不同,光強隨之產生相應的變化,將探測器收集的光信號轉換成電壓信號,不同的電壓信號對應不同的粒徑大小,從而得到微粒的粒徑。磨料漿檢測儀將光消減和光散射兩種物理作用有機的結合起來,通過光消減獲得較大的動態粒徑范圍,通過光散射增加對小粒子的靈敏度,成為一項技術。
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